Пропуск в контексте
Toggle navigation
Eдиный поиск по ресурсам
Оставить отзыв
Профиль
Выход
Логин
Язык
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
НЭБ УР
Интернет-проекты
Все поля
Заглавие
Автор
Предмет
ISBN/ISSN
Ключевые слова
Fulltext
Найти
Расширенный поиск
Физико-химические основы техно...
Описание
Цитировать
Отправить на Email
Добавить в Избранное
Заказать по ЭДД
Физико-химические основы технологии полупроводниковых материалов В. В. Крапухин, И. А. Соколов, Г. Д. Кузнецов
Сохранить в:
Библиографические подробности
Автор:
Крапухин В. В.
Другие авторы:
Соколов И. А.
,
Кузнецов Г. Д.
Тип документа:
Книга
Язык:
Russian
Год издания:
Москва Металлургия 1982
Рубрика:
Производство
Физико-технические основы
Ключевые слова:
Полупроводники Производство Физико-технические основы
Фонды
Описание
Комментарии
Схожие документы
Marc-запись
Недоступно описание.
Схожие документы
Физико-химические основы очистки металлов и полупроводниковых материалов
Автор: Беляев А. И.
Год издания: (1973)
Физико-химические основы легирования полупроводников
Автор: Глазов В. М.
Год издания: (1967)
Технология полупроводниковых материалов. Раздел: Расчеты по технологии полупроводниковых материалов
Автор: Крапухин В. В.
Год издания: (1979)
Свойства легированных полупроводниковых материалов
Год издания: (1990)
Физико-химические основы технологии дисперсных систем и материалов
Автор: Урьев Н. Б.
Год издания: (1988)
×
Загрузка...