Пропуск в контексте
Toggle navigation
Eдиный поиск по ресурсам
Оставить отзыв
Профиль
Выход
Логин
Язык
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
НЭБ УР
Интернет-проекты
Все поля
Заглавие
Автор
Предмет
ISBN/ISSN
Ключевые слова
Fulltext
Найти
Расширенный поиск
Фоторезистивные свойства аморф...
Описание
Цитировать
Отправить на Email
Добавить в Избранное
Заказать по ЭДД
Фоторезистивные свойства аморфных и поликристаллических пленок широкозонных полупроводников В. Ю. Ибрагимов, В. М. Рубинов
Сохранить в:
Библиографические подробности
Автор:
Ибрагимов В. Ю.
Другие авторы:
Рубинов В. М.
Тип документа:
Книга
Язык:
Russian
Год издания:
Ташкент Фан 1991
Рубрика:
Фотопроводимость
Ключевые слова:
Полупроводниковые пленки Фотопроводимость
Фонды
Описание
Комментарии
Схожие документы
Marc-запись
5-648-00717-5
Схожие документы
Поликристаллические пленки полупроводников в микроэлектронике
Автор: Колешко В. М.
Год издания: (1978)
Кристаллизация тонких пленок
Год издания: (1970)
Газофазная микрометаллургия полупроводников
Автор: Дорфман В. Ф.
Год издания: (1974)
Переходные области эпитаксиальных полупроводниковых пленок
Автор: Александров Л. Н.
Год издания: (1978)
Кинетика кристаллизации и перекристаллизации полупроводниковых пленок
Автор: Александров Л. Н.
Год издания: (1985)
×
Загрузка...