Физико-химические основы легирования полупроводников В. М. Глазов, В. С. Земсков

Сохранить в:
Библиографические подробности
Автор: Глазов В. М.
Другие авторы: Земсков В. С.
Тип документа: Книга
Язык:Russian
Год издания: Москва Наука 1967
Рубрика:
Ключевые слова:
LEADER 01266nam0a2200277 i 4500
001 66555951-AA7D-4B1C-B3FE-78A4AB3BD9A8
010 |d р.2.00 
100 |a 20150825d1967 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a z 000#y 
200 1 |a Физико-химические основы легирования полупроводников  |f В. М. Глазов, В. С. Земсков  |g АН СССР, Ин-т металлургии им. А. А. Байкова 
210 |a Москва  |c Наука  |d 1967 
215 |a 371с.  |c ил.  |d 26 см 
320 |a Библиогр.: с. 353-364 (638 назв.). - Предм. указ.: с. 365-367 
606 |a Полупроводники  |x Легирование  |x Физико-химические основы 
686 |a 34  |2 rubbk 
686 |a 53  |2 rugasnti 
700 1 |a Глазов  |b В. М.  |g Василий Михайлович 
701 1 |a Земсков  |b В. С.  |g Виктор Сергеевич 
711 0 2 |a Институт металлургии им. А. А. Байкова  |c (Москва) 
712 0 2 |a Институт металлургии им. А. А. Байкова  |c (Москва) 
801 0 |b ГПНТБ России  |a RU  |c 20150825